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Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device

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Kataloginformation Katalogdatensatz79764 .

Kataloginformation
Feldname	Details
Verfasser	Apicella, M.L.
	Samuelli, M.
	Vitulli, S.
Further Persons	et al.
Körperschaften	ENEA, Rome(IT)
TITLE	Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device
Publ. Year	2003
Seiten	14 S.
ISSN	0393-3016
Report No.	RT-2003-71-FUS

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